Трапашко, Георгий Алексеевич.     Методы оптико-электронной регистрации критических размеров субмикронных планарных структур изделий микроэлектроники [Text] : автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук / Трапашко Георгий Алексеевич ; Учреждение образования "Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники". - Минск : [s. n.], 2014. - 21 с. : ил., табл. - ^aБиблиография: с. 17—18 (16 назв.). - Б. ц. ; Резюме на белорусском, русском и английском языках ГРНТИ ^a47.33.31^96 ^a47.35.41^96 ^a05.27.06 УДК ^a621.383.049.77(043.3)^v4^zrus Рубрики: ОПТОЭЛЕКТРОННАЯ ТЕХНИКА    МИКРОЭЛЕКТРОНИКА    ПЛАНАРНЫЕ СТРУКТУРЫ    ФОТОШАБЛОНЫ    ФОТОЛИТОГРАФИЯ    ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПЛАСТИНЫ    ФОТОМЕТРИЧЕСКИЕ МЕТОДЫ    СУБМИКРОННЫЕ СТРУКТУРЫ    АВТОРЕФЕРАТЫ Свободных экз. нет

Галай, О. Ф.     Оптимальные фототехнические процессы при автоматизированном изготовлении фотошаблонов плат печатного монтажа [Text] / О. Ф. Галай, Л. Н. Храмова. - Л. : [s. n.], 1980. - 18 с. - Б. ц. УДК ^a621.3.049.75.002^v3^zrus ^a681.652:77^v3^zrus Рубрики: ПЕЧАТНЫЕ ПЛАТЫ    ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА    АВТОМАТИЗИРОВАННЫЕ ПРОИЗВОДСТВА    ПЕЧАТНЫЙ МОНТАЖ    ФОТОШАБЛОНЫ    ФОТОТЕХНИКА Доп.точки доступа: Храмова, Л. Н. Свободных экз. нет

Изготовление фотошаблонов [Text] : темат. подборка / БелНИИНТИ. - Минск : [s. n.], 1987. - 21 с. - Б. ц. УДК ^a621.3.049.75.002(01)^v3^zrus ^a681.652.53::771.5](01)^v3^zrus Рубрики: ПЕЧАТНЫЕ ПЛАТЫ    ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА    ФОТОШАБЛОНЫ Свободных экз. нет

Изготовление и применение фотошаблонов [Text] : темат. подборка / БелНИИНТИ. - Минск : [s. n.], 1986. - 16 с. - Б. ц. УДК ^a621.3.049.77.002^v3^zrus ^a681.652.53:77^v3^zrus Рубрики: МИКРОЭЛЕКТРОНИКА    ФОТОШАБЛОНЫ    ТЕХНОЛОГИЯ ПРОИЗВОДСТВА Свободных экз. нет

Костанян, М. Г.     Маскирующие пленочные покрытия для применения в производстве фотошаблонов [Text] : обзор / М. Г. Костаньян. - М. : [s. n.], 1980. - 49 с. - Б. ц. УДК ^a621.3.049.77.002^v3^zrus ^a681.652:77^v3^zrus Рубрики: ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПРИБОРЫ    ФОТОШАБЛОНЫ    ПЛЕНОЧНЫЕ ПОКРЫТИЯ Свободных экз. нет

Стеклянные подложки в производстве прецизионных фотошаблонов [Text] : по данным отечеств. и зарубеж. печати за 1967-1984 гг. / Б. Г. Грибов [и др.]. - М. : [s. n.], 1985. - 38 с. - Б. ц. УДК ^a621.3.049.77.002:771.52^v3^zrus Рубрики: МИКРОЭЛЕКТРОНИКА    ПРЕЦИЗИОННЫЕ ДЕТАЛИ    ФОТОШАБЛОНЫ    ПОДЛОЖКИ Доп.точки доступа: Грибов, Борис Георгиевич (доктор химических наук) Свободных экз. нет

Соколов, Сергей Иванович (кандидат технических наук).     Двухлучевая лазерная обработка кварца для резонаторов и фотошаблонов субмикронных интегральных микросхем [Text] : автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук / Соколов Сергей Иванович ; Учреждение образования "Белорусский государственный университет информатики и радиоэлектроники". - Минск : [s. n.], 2023. - 23 с. : ил., табл. - ^aБиблиография: с. 17—20 (34 назв.). - Б. ц. ; Резюме параллельно на белорусском, русском, английском языках ГРНТИ ^a81.35.13^v6 ^a47.35.31^v6 ^a47.03.05^v6 ^a05.27.06 УДК ^a621.3.049.77(043.3)^v4^zrus ^a621.791.947.2(043.3)^v4^zrus Рубрики: МИКРОЭЛЕКТРОНИКА    ПОЛУПРОВОДНИКОВАЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКА    СУБМИКРОННЫЕ СТРУКТУРЫ    СУБМИКРОННЫЕ ТЕХНОЛОГИИ    КВАРЦ    КВАРЦЕВОЕ СТЕКЛО    ПОДЛОЖКИ (электроника)    ФОТОШАБЛОНЫ    ЛАЗЕРНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ    ЛАЗЕРНАЯ ОБРАБОТКА    ЛАЗЕРНАЯ РЕЗКА    ЛАЗЕРНАЯ СВАРКА    ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ СВАРКА    ТЕМПЕРАТУРНЫЙ РЕЖИМ    ТЕПЛОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА    ТЕРМОРАСКАЛЫВАНИЕ    КОНЕЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ МЕТОД Свободных экз. нет