Марийский гос.техн.ун-т,Йошкар-Ола. Тонкие пленки в электронике [Text] : тез.докл.ХI Междунар.науч.-техн.конф., 28-31 авг.2000 г. / Марийский гос.техн.ун-т,Йошкар-Ола. - Йошкар-Ола : [s. n.], 2000. - 59 с. : ил. - ^aБиблиогр.в конце ст.Авт.указ.:с.59. - ISBN 5-8158-0095-3 : Б. ц. В надзаг.:Марийс.гос.техн.ун-т, Междунар.акад.информатизации.
Свободных экз. нет |
Boer, M. P.de Fracture toughness of silicon and thin film micro-structures by wedge indentation [Text] : сборник научных трудов / M. P.de Boer, He Huang, J. C. Nelson. - Minneapolis(Mn) : [s. n.], 1995. - Var.pag. : ill. - (UMSI research report / University of Minnesota(Minneapolis,Mn).Supercomputer institute ; 95/259). - ^aБиблиогр.в конце книги. - Б. ц.
Доп.точки доступа: He Huang; Nelson, J.C. Свободных экз. нет |
Патрушева, Т. Н. Растворные пленочные технологии. Современные технологии микро- и наноэлектроники [Text] : учеб. пособие / Т. Н. Патрушева. - Красноярск : СФУ, 2010. - 301 с. : ил. - ^aБиблиогр.: с. 285-298 (212 назв.). - ISBN 978-5-7638-1956-4 : Б. ц. ; В надзаг.: Сиб. федер. ун-т
Пленочная наноэлектроника Свободных экз. нет |
Мягков, В. Г. Твердофазные реакции и фазовые превращения в слоистых наноструктурах [Text] : монография / В. Г. Мягков, В. С. Жигалов ; отв. ред. В. Ф. Шабанов. - Новосибирск : Изд-во СО РАН, 2011. - 155 с. : ил. - ^aБиблиогр.: с. 146-153 (105 назв.). - ISBN 978-5-7692-1193-5 : Б. ц. ; В надзаг.: Рос. АН, Сиб. отд-ние, Ин-т физики им. Л. В. Киренского, Сиб. гос. аэрокосм. ун-т им. М. Ф. Решетнева.
Доп.точки доступа: Жигалов, В.С. Свободных экз. нет |