Вид документа : Шифр издания : vr=J969722 Заглавие : Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS Выходные данные : Bellingham: SPIE, 2002 Примечания : n ISSN: 19325150 ГРНТИ : 47.13 + 47.33 Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): нанотехнологии, электроника--нанотехнологии, фотоника--нанотехнологии, нанолитография Аннотация: Статьи по развитию литографии, изготовления, сборки, а также интеграции технологий, необходимых для электроники, микрооптоэлектромеханической (МЭМС и МОЭМС) и индустрии фотоники. Раздел микролитографии: литография субмикрометровых структур (средства, процессы и материалы); ключевые темы - оптическая литография, развивающиеся литографические системы и методы, способы увеличения разрешения, инновации в освещении и схемы апертурной фильтрации, антиотражательные покрытия, коррекция оптической близости, CD контроль, выравнивание, технология и обработка резиста, метрология, технология бинарных и фазовопереходных масок, моделирование. Раздел микропроизводства и микромеханической обработки: технологии формирования трехмерных структур для изготовления активных и пассивных электронных, электромеханических, оптоэлектронных и оптоэлектромеханических устройств, а также пассивных оптических устройств; ключевые темы - технологии гравирования и нанесения рисунка, технологии изготовления печатных форм, тиражирование, микромеханическая обработка поверхности, технология сфокусированного ионного пучка, изготовление и литография для трехмерных систем, МЭМС/МОЭМС, микрооптика. Раздел микросистем: основные процессы и технологии сборки и интеграции; ключевые темы - новаторские конструкции корпусов, моделирование, материалы, технология межсоединений, процессы интеграции, сборка в масштабе целой пластины, трехмерная сборка, активное и пассивное выравнивание, микромонтаж, структурная целостность, микроохлаждающие системы, а также проектирование и применение микросистем. См. : journal link (full text - НТО-3)